当前国内生产的真空获得设备仍然以传统的真空泵为主，主要为水环真空泵、旋片真空泵、蒸汽流泵、滑阀真空泵、罗茨真空泵，且全部用于传统行业。我国生产的真空泵真正用于集成电子电路信息产业的不足1%。相比于日本、欧美等发达国家差距巨大。我国的干式真空泵正处于起步阶段，全国200多家生产真空泵的企业中，能够生产干式真空泵的企业不超过10家，难以形成批量生产。

 

国内生产的干式真空泵大部分应用于实验室、化学、医疗等领域，很少有国产干泵应用于半导体行业。究其原因一方面半导体的生产过程中会产生大量粉尘，处理不好容易造成干泵卡死，尤其刻蚀工艺多用腐蚀性气体，会对干泵内部零件造成腐蚀，造成漏油、毒气泄漏等事故。若干泵故障多发，对半导体集成电路生产造成的损失巨大。国产干泵的可靠性还不能解决上述问题。近年来，随着国内经济转型，半导体电子信息产业在国内的飞速发展，但国内干式真空泵的发展没有跟上，使该领域成为国际上干式真空泵工业发达国家的扩张之地。

 

国内的半导体集成电路生产线，几乎所有的干式真空泵都是进口泵，进口泵主要来自日本、德国、美国、英国、法国等。在日本，半导体行业已全部用干式真空泵代替油封式机械泵，欧美半导体行业45%以上用干式真空泵代替油封式机械泵，目前干式真空泵的主要型式有爪型、罗茨型、涡旋型、螺杆型和往复活塞式、隔膜式等几种。国内生产的干式真空泵想要进入该领域十分艰难，使得干式真空泵这个未来真空获得设备的主导产品在国内的处境十分艰难，造成此状况的主要原因是我国真空干泵的起步晚，绝大部分市场已经被国外产品占领。国内真空干泵除了价格优势，在加工、材料、设计创新都难以与国外品牌竞争。尤其可靠性方面更是与国外同类产品存在差距。